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    可定制脉冲激光沉积(PLD)系统
    Pulsed Laser Deposition System
    商品货号:ECS002828
    商品品牌:Hisky
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    详细介绍
    可定制脉冲激光沉积系统
    —— Pulsed Laser Deposition System
    脉冲激光沉积Pulsed Laser Deposition系统,简称PLD系统,本系统由准分子激光器和真空镀膜室两大部分组成;真空镀膜腔由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
    一、激光器部分:
    基于LightMachinery最畅销的IPEX系列工业级准分子激光器,为PLD应用优化了激光器;IPEX系列准分子激光器在脉冲激光沉积PLD领域展现了优异的性能、耐用性、可靠性和满足研究人员和系统集成商要求的易于集成性能。
    激光器优点:
    1)    优秀的光束匀称性,脉冲到脉冲能量稳定和短脉冲持续时间
    2)    在所有重复率能量恒定
    3)    最长气体寿命和最低运行成本的ICONTM(在镍集成陶瓷)技术
    4)    EasyClean自动光学密封,以保持填充气体,减少维护时间
    5)    高亮度镜头,适用于降低光束发散或延长相干长度
    6)    定制光束传输系统
    PLD性能稳定:
    1)   能量恒定:IPEX-740/760系列激光器的指定脉冲能量从单脉冲到最大重复频率都是恒定的。这与其他有竞争力的激光器只能在低重复频率能量恒定和能量随脉冲重复率上升而快速下降形成鲜明对比。LightMachinery的方法使PLD的工艺参数与激光重复率是一个恒量。
    2)   恒定脉冲稳定性:在PLD应用中,脉冲能量受一个先进的能量监视器监控,能够准确的调节放电电压和混合气体,在任何操作条件,包括PLD需要的一组脉冲,恒定输出能量。
    3)   指向性稳定:镜片座稳定性高.<200μrad指向稳定性,光学维护后不需要调制光束角度
    4)   光束质量稳定:IPEX-740/760系列激光器的光束强度分布被设计为边缘陡峭,顶部平坦,特别是激光器长期工作无变化。
    激光器规格:
    Wavelengthnm
     
    248
    KrF
    193
    ArF
    Stabilised Pulse EnergymJ
    at all repetition rates
    Ipex-740Series
    400
    150
    Ipex-760Series
    600
    200
    Maximum Repetition Ratepps
    Ipex-746
    100
    100
    Ipex-744
    50
    40
    Ipex-742
    25
    20
    Ipex-766
    Ipex-764
    Ipex-762
    50
    30
    15
    40
    25
    12
    Stabilised Average PowerW
    Ipex-746
    40
    15
    Ipex-744
    20
    6.0
    Ipex-742
    10
    3.0
    Ipex-766
    Ipex-764
    Ipex-762
    30
    18
    9
    10
    5.0
    2.5
    Pulse Durationns)(FWHM,nominal
    12-20ns
    Beam Dimensionsmm)(V×H,nominal
    Ipex-740Series
    12×26
    Ipex-760Series
    12×28
    Beam Divergencemrad)(V×H,nominal
     
    1×3
     
     
     
    二、真空镀膜腔:
    1、溅射真空室组件 1套                                         
    球型真空室尺寸Ф450mm,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行特殊工艺抛光处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;
    2、旋转靶台组件 1套                                          
    1)   每次可以装四块靶材,靶材尺寸:i)Φ60mm和(ii)Φ25mm;
    2)   每块靶材可实现自转,转速560转/分,连续可调,由电机驱动磁力耦合机构控制;
    3)   靶位公转换位机构,由电机驱动磁耦合机构控制;
    4)   靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽,每次只有一个靶材露出溅射成膜,以避免靶材之间的交叉污染;
    3、抗氧化基片加热台组件 1套                               
    1)   基片尺寸:可放置φ2基片;
    2)   基片加热最高温度 800℃±1,由热电偶闭环反馈控制,采用抗氧化材料作加热器;
    3)   基片可连续回转,转速560转/分,电机驱动磁耦合机构控制;
    4)   基片与靶台之间距离3090mm可调,由腔外手动波纹管调节机构控制;
    5)   手动控制样品挡板组件:1套;
    6)   样品托:2个;                                    
    4、窗口及法兰接口部件 1套                          
    5、激光束扫描控制系统 1套
    二维扫描机械平台,两套电机控制,也可手动控制;
    6、工作气路 2路
    7、抽气机组及阀门、管道 1套                                 
    8、安装机台架组件 1套                                      
    优质方钢型材焊接成,快卸围板表面喷塑处理;机台表面用不锈钢蒙皮装饰;四只脚轮,可固定,可移动;
    9、真空测量及电控系统 1套   
    1)电源机柜:1台(含总控电源,有断电?;すδ埽?;
    2)控制电源:1台(为机械泵、电磁阀等提供电源);
    3)产生氧等离子体的电离电源:1套;
    4)样品加热控温电源:1套(可实现程序控温);
    5)电机旋转电源:3套;
    6)加热烘烤及照明电源:1套;
    7)宽量程数显真空计(成都):1套;测量范围:1.0x105Pa1.0x10-8Pa。
    8)100SCCM质量流量显示器:1套;
    9)激光扫描电源:1套;(激光器用户提供)
    10) 分子泵控制电源:1套
    10、计算机控制系统 1套       
    商品标记

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